半导体超纯水设备的工艺及流程

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　　传统的超纯水设备主要采用电渗析、离子交换器(阳床、阴床、复床、混床)。我们生产的新型半导体超纯水设备采用先进的EDI(连续电除盐技术)设备。EDI是将电渗析技术和离子交换技术有机结合在一起形成的一种新型除盐技术，可以有效地去除水中几乎所以的阴阳离子，出水电阻率可以稳定在15MΩ.CM以上，连续运行、无化学污染、水的利用率高，在超纯水制备工艺上有着强大的优势广阔的应用前景。

　　我们专注于半导体超纯水设备的研发生产，于此同时该设备还适用于太阳能光伏行业用超纯水设备处理、PCB用超纯水、电视机用超纯水、录音机用超纯水等。应用达到符合标准的水源，尽可能地减少设备的污染，延长设备的寿命，也降低操作人员的维护工作量。

　　半导体过滤器(具体情况再具体分析)

　　1、采用离子交换方式(离子交换工艺参数)，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点。

　　2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。

　　3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。

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