厂务真空系统（PV）、清洁真空系统（HV）、工艺高真空系统（HPV）工艺技...

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　　一、中央清扫真空系统HV（House Vacuum）

　　又称中央真空除尘系统，广泛存在于电子行业、化工行业、以及制药等行业中。

　　1.1系统组成

　　中央真空清扫系统是由吸尘主机（如下图所示）、控制系统、吸尘管路、吸尘阀门、吸尘操作组件：真空清扫口（边墙型/地板型）、清扫口连接弯头（边墙型）、清扫口连接件（地板型）、开关盒等构成。真空吸尘系统是一种高负压，低流量的除尘系统的统称。这一系统往往被应用于电子行业制造车间环境的清扫。应用这一系统的用户往往对粉尘捕集的要求非常高，生产过程采用的加工设备属于高精密加工设备，防尘要求高。

　　PV工艺验证工作原理

　　中央真空清扫系统运行时，粉尘通过吸尘嘴被有效的吸入到真空管网内部，在真空负压的作用下，被吸进的粉尘随气流沿着负压管路被抽入吸尘器内部。首先大颗粒粉尘经过进风口导流板，在离心力的作用下，落入机器下方的集尘桶内；密度极轻粉尘随气流继续向上运动。粉尘进入中央吸尘主机过滤室时，被过滤器分离，清洁的空气由真空吸尘机排风出口经消音装置排入空气中。过滤器上的粉尘通过系统自动脉冲反吹装置定时反吹交替工作来完成。。

　　1.3中央清扫装置特征：

　　集中的收集废弃物并且能够自动的排除气体或液体。

　　创造一个更加安全更加干净的洁净室工作环境。

　　真空清扫系统一般放置在清洁室的外机房或者放到远离有危险的区域。

　　每一套装置都设计的可以连续一天24小时工作，连续一周7天工作。

　　二、制程真空PV（ Plant vacum）

　　工艺真空系统广泛应用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业，需要有极高的运作性能和可靠性。随着电子厂自动化程度越来越高，很多机器都需要真空作为设备的动力。大部份的真空度要求在-0.06MPa -0.09MPa 左右。其中芯片厂主要用于wafer的吸取及移动以及如下设备：