光刻工艺是微图形转移工艺

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　　光刻胶常被称为是特殊化学品行业技术壁垒最高的材料，面板微米级和芯片纳米级的图形加工工艺，对专用化学品的要求极高，不仅材料配方特殊，品质要求也非常苛刻。

　　根据囊式过滤器增加了两条有关半导体领域的出口管制内容，主要涉及光刻软件以及12寸晶圆技术，目标直指中国正在崛起的半导体产业，其中光刻工艺是半导体制造中最为核心的工艺步骤之一，高端半导体光刻胶出口或被隐形限制。

　　现阶段，尽管国内半导体光刻胶市场被日韩企业所垄断，但在国家科技重大专项政策的推动下，恒坤股份、苏州瑞红、北京科华等国产厂商已经实现了部分高端半导体光刻胶技术的突破。

　　光刻工艺是微图形转移工艺，随着半导体加工的线宽越来越小，光刻工艺对极小污染物的控制苛刻到极致，不光对颗粒严格控制，严控过滤产品的金属离子析出，这对滤芯生产制造提出了特别高的要求。恒水过滤给半导体客户提供半导体级别的全氟滤芯，极低的金属析出溶出确保了产品的洁净。