过滤器系列，帮助提高半导体制程的良率

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　　半导体过滤器此款新型过滤器专为 CMP 机台设计，可为单过滤器中所有关键 AMC 提供均衡寿命，从而避免多片过滤器处理的复杂性。此外，此款过滤器保留了 VaporSorb 品牌业界领先的使用寿命优势，从而能够降低机台宕机时间和使用成本。

　　Entegris AMC 过滤解决方案产品营销经理 Marc Venet 表示，“正如在光刻工艺中那样，CMP 工艺中的良率问题可通过提供全面的 AMC 保护得以解决。这意味着能够抵御弱酸，以及强酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 产品，我们可以提供一体化解决方案彻底解决 CMP 工艺中 AMC 引发的腐蚀缺陷。”

　　弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸盐;CH3COO- 和甲酸盐;HCOO-)以及亚硝酸(亚硝酸盐;NO2-)等。强酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。这些污染物会导致 CMP 工艺缺陷和良率问题。

　　7 月，公司发布了业界首款“四合一”过滤器，即面向光刻机台的 VaporSorb TRK，用于捕获气体有机物、碱基类、强酸和弱酸。VaporSorb 过滤器采用 Entegris特有的混合材料，可捕获气体分子污染物，专为提供特定于应用和工厂的过滤器解决方案而量身定制。